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      峰形后拖尾的原因
      點擊次數(shù):2847 更新時間:2018-03-20

      [柱物理損壞]

            色譜柱有物理損壞是造成峰形拖尾的根源。*的解決方法就是更換新柱。

      [柱內(nèi)填料污染]

            流動相和樣品中的雜質(zhì)是色譜柱主要污染源。

            流動相所用的各種溶劑至少是分析純,盡量使用色譜純試劑。流動相所用的水是超純水或全玻璃器皿雙蒸水。用前先用0.45um溶劑微孔過濾(器)過濾,除去可能存在的微粒。流動相建議現(xiàn)用現(xiàn)配,對于含鹽的溶液尤其注意長置會產(chǎn)生細(xì)菌或出現(xiàn)沉淀。此外還得保證儲存流動相的容器清潔。

            復(fù)雜樣品可選用0.45um溶劑微孔過濾(器)或樣品預(yù)處理柱對樣品進(jìn)行預(yù)處理,確保樣品中不含微粒雜質(zhì)。若樣品不便處理,要使用保護(hù)柱。

            柱內(nèi)填料污染時,可將柱頭螺絲卸下,用工具挖出柱內(nèi)前段被污染填料,再以相同的填料重新填入,修復(fù)。或以能溶解污染物的流動相按色譜柱使用的相反方向,沖洗色譜柱(約20至30倍柱體積,或視具體情況而定;另外,此時不能接檢測器),將污染物沖出色譜柱,再按色譜柱標(biāo)明的使用方向使用。

      [柱進(jìn)口處有異物]

            當(dāng)斷定是柱進(jìn)口處有異物時,可將柱頭螺絲卸下,取出濾帽并將其置于20%硝酸溶液中,用超聲波清洗約20分鐘,再置于超純水中,并用超聲波清洗約10分鐘,重新裝入色譜柱內(nèi)即可。

      [樣品濃度過高致使柱超載]

             樣品在柱上超載能引起峰展寬,拖尾(或伸舌)。

             適當(dāng)減小進(jìn)樣量或樣品濃度(需要時,可提高檢測器靈敏度)直至峰形和保留時間不再改變,便可消除這種不良影響。減小進(jìn)樣量還能改善其分離度。正常情況下,樣品中每種化合物在150×4.6mm柱中進(jìn)樣量保持在3~50ug范圍內(nèi),不會引起明顯超載。

      [樣品溶劑不對]

            選擇合適的樣品溶劑,以排除不必要的干擾。選用流動相溶解樣品。

      [柱外效應(yīng)]

            柱外效應(yīng)(即進(jìn)樣閥、色譜柱及檢測器間的管路過長、直徑過粗、管路接頭不匹配、有死體積)是影響色譜柱柱效的主要因素之一。所以在可能的條件下,色譜柱的兩端連接管路要盡可能短,連接管內(nèi)徑盡可能細(xì)小,切口務(wù)必平整光滑,盡可能的減小死體積,以防止因樣品擴(kuò)散造成不能反映色譜柱真實柱效等情況發(fā)生。

      [緩沖不足或不合適]

            在緩沖不好或離子強(qiáng)度過低的分離中,也會出現(xiàn)保留時間重現(xiàn)性差和峰形拖尾。增加緩沖濃度(與樣品大小相匹配)能改善此情況。

      [硅醇基團(tuán)作用]

            仔細(xì)分析色譜柱內(nèi)填料表面性質(zhì)可知:反相色譜柱填料的表面大約被鍵合相覆蓋了一半,其余的就是未被鍵合的硅醇基團(tuán)。所謂的保留是指樣品分子與鍵合相相互作用的結(jié)果。但是,酸性或堿性化合物與硅膠表面殘存的硅醇基團(tuán)或金屬雜質(zhì)之間相互作用而引起雙重保留機(jī)理,因此,發(fā)生了峰形拖尾。

            為了減小峰形拖尾,通常可在流動相加入25mM三乙胺(抑制劑)。三乙胺能與硅醇基團(tuán)發(fā)生強(qiáng)烈的相互作用,從而降低或阻斷樣品分子與硅醇基團(tuán)的作用,以保證保留機(jī)理正常進(jìn)行,并大大緩解了峰形拖尾。使用長鏈的硅醇基抑制劑,雖起效較慢,但持續(xù)力較三乙胺長。因為抑制劑分子中除了胺基與硅醇基團(tuán)發(fā)生極性作用外,大分子中非極性部分與固定相也會發(fā)生反相作用而產(chǎn)生保留現(xiàn)象。如果將抑制劑加至樣品中,效果會顯著。

      [柱內(nèi)金屬污染]

            柱內(nèi)金屬污染(Fe,Ni等)可引起某引些化合物峰形拖尾。金屬可由填料本身帶進(jìn),也可由腐蝕性流動相緩慢溶解柱進(jìn)口的金屬濾片,隨流動相沉積到柱填料中。例如C18柱填料被金屬污染后,造成酸性/堿性樣品拖尾,可用堿洗/酸洗后再鍵合的填料,得到的峰是尖銳且對稱的。

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